供應商：HORIBA 科學儀器事業部

橢圓偏振光譜是一種無損無接觸的光學測量技術，基于測量線偏振光經過薄膜樣品反射后偏振狀態發生的改變，通過模型擬合后得到薄膜、界面和表面粗糙層的厚度以及光學性質等等，可測厚度范圍為幾埃至幾十微米。此外，還可以測試材料的反射率及透過率。

供應商：優尼康科技有限公司

全自動化&高集成度&可視化光斑 操作簡單，測試快速，為一般操作工人設計 新型的全自動薄膜測量分析工具可在幾秒鐘內完成全自動測量和分析，并輸出分析報告。是用于快速薄膜測量和器件質量控制理想的解決方案。

供應商：北京賽凡光電儀器有限公司

EM12是采用先進的測量技術，針對中端精度需求的光伏太陽能電池研發和質量控制領域推出的精致型多入射角激光橢偏儀。 EM12-PV用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系數k。 EM12-PV融合多項量拓科技ZL技術，采用一體化樣品臺技術，兼容測量單晶和多晶太陽電池樣品。一鍵式多線程操作軟件，使得儀器操作簡單安全。 &#

供應商：致東光電科技（上海）有限公司

上海致東全光譜橢偏儀

供應商：天津市拓普儀器有限公司

儀器簡介：產品特點： 儀器采用消光法自動測量薄膜厚度和折射率，具有精度高、靈敏度高以及自動控制等特點。光源采用氦氖激光器，功率穩定波長精度高。 儀器采用USB接口與電腦連接，配套軟件功能齊全，具有多樣數據采集及處理方式，適用于不同用戶的需要。技術參數：規格與主要技術指標： 測量范圍：1nm-4000nm 折射率范圍：1-10 測量最小值：≤1nm 入射角：20°- 90°精度≤0.05° 度盤刻度：每格1度 允許樣品尺寸：φ10-φ140mm，厚度≤16mm 偏振器方位角范圍：0°- 180° 外形尺寸：

供應商：天津市拓普儀器有限公司

儀器簡介：在近代科學技術的許多領域中對各種薄膜的研究和應用日益廣泛。因此，更加精確和迅速的測定給定薄膜的光學參數已變得更加迫切和重要。在實際工作中可以利用各種傳統的方法測定光學參數，如：布儒斯特角法測介質膜的折射率，干涉法測膜厚，其它測膜厚的方法還有稱重法、X射線法、電容法、橢偏法等。由于橢圓偏振法具有靈敏度高、精度高、非破壞性測量等優點，因而，橢圓偏振法測量已在光學、半導體、生物、醫學等諸多領域得到廣泛應用。技術參數：規格與主要技術指標： 測量范圍：薄膜厚度范圍：1nm-300nm； 折射率范圍：1-1

供應商：深圳市藍星宇電子科技有限公司

激光橢偏儀SE 400adv PV,是全球化使用的標準儀器，用于測量PV單層防反射涂層的厚度和折射率指數。特別用于表征單晶和多晶硅太陽能電池上的SiNx 防反射單層膜的性能。該儀器用于SiNx涂層和薄鈍化層SiO2和Al2O3的質量控制。

供應商：沈陽科晶自動化設備有限公司

橢偏在線監測裝備針對LCD、OLED等新型平板顯示量光學薄膜質量控制需要，專門設計的在線薄膜測量系統?？蛇m用于空氣、N2、真空等環境條件，自動實現玻璃基板上各種膜系結構厚度分布、光學常數分布的全片快速掃描測量。橢偏在線監測裝備廣泛應用于工業中新型光電器件行業所涉及的PI配向膜、光刻膠薄膜、ITO薄膜、有機發光薄膜、有機/無機封裝薄膜大基片各種膜系結構厚度分布、光學常數分布的在線式全片快速掃描測量。1、支持產線大基片自定義多點掃描測量并輸出報告 2、支持ZD193-2500nm全波段分析測量 3、支持多

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SE-PV光伏橢偏儀是一款光伏行業領域專用型光譜橢偏儀，針對光伏行業絨面單晶硅或多晶硅太陽能電池表面減反膜測量定制開發，快速實現薄膜物性表征分析。光伏橢偏儀廣泛應用于光伏絨面單晶硅或多晶硅表面減反膜橢偏測量應用,實現單層到多層薄膜的薄膜、光學常數和幾何特征尺寸快速的表征分析。1、光伏專用光譜橢偏測量技術，材料定制庫，一鍵快速調用 2、配置可傾斜、大角度樣件臺，調節絨面單晶硅ZJ反射可測反射信息量 3、配置進口高功率、高壽命光源，增加經減反絨面后的可測反射信息量 4、光伏專用散射矩陣算法描述光與錐形表面

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光譜橢偏儀SE-Vi是一款集成式原位光譜橢偏儀，針對有機/無機鍍膜工藝研究的需要開發的原位薄膜在線監測中的定制化開發，快速實現光學薄膜原位表征分析。光譜橢偏儀廣泛應用于金屬薄膜、有機薄膜、無機薄膜的物理/化學氣相沉積，ALD沉積等光學薄膜工藝過程中實際原位在線監測并實時反饋測量物性數據。 產品型號 SE-i 光譜橢偏儀 技術參數 1、自動化程度：固定變角 2、應用定位：原位定制型 3、基本功能：Psi/Delta、N/C/S等光譜 4、分析光譜：380

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光譜橢偏儀SE-Glass 是一款針對玻璃蓋板行業定制的專用型光譜橢偏儀，針對玻璃蓋板光學鍍膜行業通過集成微光斑+可視化調平系統儀消除透明基底背反測量定制開發，快速實現玻璃蓋板上多層薄膜物性表征分析。光譜橢偏儀SE-Glass 廣泛應用于玻璃基底山減反膜、調光膜、導電膜等薄膜的膜厚，光學常數測量，WM適用于玻璃蓋板、光學薄膜等鍍膜檢測應用。1、針對手機玻璃蓋板光學鍍膜工藝定制開發專用光譜橢偏儀 2、旋轉補償器測量技術和光學建模技術 3、微光斑集成設計消除玻璃/膜片基底背反影響 4、可視化樣品臺調平模塊

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全自動橢偏檢測機臺作為一種小型橢偏集成機臺，通過整體高度模塊化，電、氣路集成技術，實現不同橢偏測量模塊在線/離線式整體橢偏測量解決方案。全自動橢偏檢測機臺廣泛應用于科學研究中各種各向同性，異性薄膜材料的膜厚、光學常數以及一維、二維納米光柵的結構表征；工業領域新型光電器件行業所涉及的薄膜（配向膜、光刻膠、ITO、發光薄膜、封裝薄膜）全片離線化快速掃描測量。1、支持實驗室研究整體橢偏集成控制測量技術 2、支持產線大基片離線自定義多點掃描測量并輸出報告 3、支持多橢偏方案，多組合集成 4、支持測頭模塊以及樣

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SE-Mapping光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，采用行業前沿創新技術，配置全自動Mapping測量模塊，通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現薄膜全基片膜厚以及光學參數自定義繪制化測量表征分析。SE-Mapping光譜橢偏儀廣泛應用OLED，LED，光伏，集成電路等工業應用中,實現大尺寸全基片膜厚、光學常數以及膜厚分布快速測量與表征。1、全基片橢偏繪制化測量解決方案 2、支持產品設計以及功能模塊定制化，一鍵繪制測量 3、配置Mapping模塊，全基片自定義多

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SE-L光譜橢偏儀是一款全自動高精度光譜橢偏儀，集眾多科技ZL技術，采用行業前沿創新技術，配置全自動測量模塊。通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析。SE-L光譜橢偏儀廣泛應用于半導體薄膜結構：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件、平板顯示、光伏太陽能、功能性涂料、生物和化學工程、塊狀材料分析等領域。1、高精度自動測量光學橢偏測量解決方案 2、全自動變角、調焦等控制平臺，一鍵快速測量 3、軟件交互式界

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SE-VM 是一款高精度快速測量光譜橢偏儀?？赏ㄟ^橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析，適用于薄膜材料的快速測量表征。支持多角度，微光斑，可視化調平系統等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設計。 高精度橢偏測量解決方案；超高精度、快速無損測量；支持多角度、微光斑、可視化調平系統功能模塊靈活定制；豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力。 廣泛應用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應用,實現光學薄膜、納米結構的光學常數和幾何特征尺寸快速的表征分析

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SE-VM 是一款高精度快速測量光譜橢偏儀?？赏ㄟ^橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析，適用于薄膜材料的快速測量表征。支持多角度，微光斑，可視化調平系統等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設計。 高精度橢偏測量解決方案；超高精度、快速無損測量；支持多角度、微光斑、可視化調平系統功能模塊靈活定制；豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力。 廣泛應用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應用,實現光學薄膜、納米結構的光學常數和幾何特征尺寸快速的表征分析

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ME-L是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了科研團隊在橢偏技術多年的投入，其采用行業前沿的創新技術，包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等?？蓱糜诎雽w薄膜結構，半導體周期性納米結構，新材料，新物理現象研究，平板顯示，光伏太陽能，功能性涂料，生物和化學工程，塊狀材料分析以及各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析。 雙旋轉補償器(DRC)配置一次測量全部穆勒矩陣16個元素；配置自動變角器、五維樣件控制平臺等優質硬件模塊，

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光譜橢偏儀SE 800 PV是分析結晶和多晶硅太陽能電池防反射膜的理想工具?？梢詼y量單層薄膜(SiNx、SiO2、TiO2、Al2O3)和多層疊層膜(SiNX/SiO2、SiNx1/SiNx2、SiNx/Al2O3)。

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激光橢偏儀SE 500adv， 結合橢偏反射CER的SE 500adv 橢偏儀SE 500adv將激光橢偏儀和反射儀結合在一個系統中。這種組合允許零度反射法用于快速薄膜分析，并且允許透明膜以激光橢偏儀的亞埃精度將可測量的厚度范圍擴展到25埃米，從而明確地確定厚度。

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德國Sentech激光橢偏儀SE 400adv, 測量透明薄膜的厚度和折射率指數，具有測量速度、亞埃級別的厚度精度和折射率測定的精度。多角度測量允許使用激光橢偏儀SE 400adv表征吸收膜特征。

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SENDURO 全自動光譜橢偏儀包括基于測量的僅在幾秒鐘內即可完成的快速數據分析。橢圓儀的設計是為了便于操作：放置樣品，自動樣品對準，自動測量和分析結果。在全自動模式下使用光譜橢偏儀非常適合于質量控制和研發中的常規應用。

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SENDIRA紅外光譜橢偏儀,振動光譜的特點是傅立葉紅外光譜儀FTIR。測量紅外分子振動模的吸收譜帶，分析長分子鏈的走向和薄膜的組成。紅外光譜橢偏儀適用于測量導電膜的電荷載流子濃度。

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德國 Sentech 低成本GX益的光譜橢偏儀SENpro,SENpro橢偏儀是橢偏儀應用的智能解決方案。它具有角度計，入射角度步進值5°。操作簡單，快速測量和直觀的數據分析相結合，以低成本效益高的設計來測量單層和多層膜的厚度和光學常數。

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SENresearch 4.0:擁有寬光譜范圍的光譜橢偏儀，在寬的光譜范圍從190nm（深紫外）到3,500 nm（近紅外）。每一臺SENresearch 4.0都是客戶特定的橢偏光譜解決方案。SENresearch 4.0可以配置用于全穆勒矩陣、各向異性、廣義橢偏、散射測量等。使用步進掃描分析器原理實現測量結果。

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全自動化&高集成度&可視化光斑 操作簡單，測試快速，為一般操作工人設計 新型的全自動薄膜測量分析工具可在幾秒鐘內完成全自動測量和分析，并輸出分析報告。是用于快速薄膜測量和器件質量控制理想的解決方案。

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Film Sense FS-1多波長橢偏儀采用壽命長 LED 光源和非移動 式部件橢偏探測器，可在操作簡單的緊湊型橢偏儀中實現快速和可 靠地薄膜測量。大多數厚度 0–1000 nm 的透明薄膜只需要簡單的 1 秒測量，就 可以獲得非常精密和準確的數據。

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橢圓偏振光譜是一種無損無接觸的光學測量技術，基于測量線偏振光經過薄膜樣品反射后偏振狀態發生的改變，通過模型擬合后得到薄膜、界面和表面粗糙層的厚度以及光學性質等等，可測厚度范圍為幾埃至幾十微米。此外，還可以測試材料的反射率及透過率。

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橢圓偏振光譜是一種無損無接觸的光學測量技術，基于測量線偏振光經過薄膜樣品反射后偏振狀態發生的改變，通過模型擬合后得到薄膜、界面和表面粗糙層的厚度以及光學性質等等，可測厚度范圍為幾埃至幾十微米。此外，還可以測試材料的反射率及透過率。

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UVISEL2是一款完全革新的全自動光譜型橢偏儀。繼承并發展了經典機型UVISEL的高準確性、高靈敏度和高穩定性等技術特點的同時，配備革新的可視系統，多達8個尺寸微光斑選項，小達35×85μm2，適用于所有薄膜材料研究領域。是目前市場上的機型。

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專為VUV 測量設計，整個系統處于真空狀態，無氧氣吸收。具備高度準確性的超快測量速度；快速樣品室抽真空能力，方便快速更換樣品；氮氣消耗量少。

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HORIBA Smart SE智能型多功能橢偏儀是一款針對單層和多層薄膜進行簡單，快速，精確表征和分析的工具。 多功能性設計，配置靈活，具備多角度測量能力，可方便實現在線與離線配置切換。

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Bruker橢偏儀FilmTek 2000 PAR-SE ——用于幾乎所有先進薄膜或產品晶片測量的先進多模計量

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FilmTekTM CD光學臨界尺寸系統是我們解決方案，可用于1x nm設計節點及更高級別的全自動化、高通量CD測量和高級薄膜分析。該系統同時提供已知和完全未知結構的實時多層堆疊特性和CD測量。 FilmTek CD利用多模測量技術來滿足與開發和生產中復雜的半導體設計特征相關的挑戰性需求。這項技術能夠測量極小的線寬，在低于10納米的范圍內進行高精度測量。

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FilmTek? 2000M TSV計量系統為半導體封裝應用提供了速度和精度組合。該系統為各種封裝工藝和相關結構的高通量測量提供了測量性能和精度，包括表征抗蝕劑厚度、硅通孔（TSV）、銅柱、凸塊和再分布層（RDL）。

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FilmTek? 2000標準桿數-SE光譜橢圓偏振儀/多角度反射儀系統結合了FilmTek技術，為從研發到生產的幾乎所有薄膜測量應用提供了業界領先的精度、精度和多功能性。其標準的小點測量尺寸和模式識別能力使該系統成為表征圖案化薄膜和產品晶片的理想選擇。 作為我們組合計量產品線（“標準桿數-SE”）的一部分，FilmTek 2000標準桿數-SE能夠滿足主流應用所需的平均厚度、分辨率和光譜范圍之外的測量要求，并由標準儀器提供。

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EMPro是針對高端研發和質量控制領域推出的極致型多入射角激光橢偏儀。 EMPro可在單入射角度或多入射角度下進行高精度、高準確性測量?？捎糜跍y量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數k；也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數k；亦可用于實時測量快速變化的納米薄膜動態生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數k。多入射角度設計實現了納米薄膜的厚度測量。 EMPro采用了量拓科技多項ZL技術。 特點：